www.traderecipesonline.com

霍尔离子源

浏览：822 日期：2020-10-08

详细参数

　　用途

　　用于真空镀膜过程中基底离子轰击清洁及沉积过程中离子轰击能量输送。广泛应用于：增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器、在线清洗、类金刚石沉积等。

　　作用

　　能够改善薄膜的生长、优化薄膜结构，增加镀膜的一致性和重复性，低温高速率镀膜。清除工件表面水和碳氢化合物，增加薄膜密度，降低内应力低，清除结合力弱的分子，反应气体活度增加，薄膜成分易于控制。