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    真空知识
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    真空镀膜装饰镀技术,真空镀膜技术

    浏览:555    日期:2020-10-08

      真空镀膜装饰镀技术
     
      ——物理气相沉积(PVD)低温合成
     
      物理气相沉积(PVD)技术成果,解决了塑料制品件(特别是尺寸小而薄的工件)真空镀容易变形的技术难题。利用产业化规模的PVD系统,通过计算机自动控制来提高工艺稳定性,沉积出高硬度、少液滴、结合强度高、耐磨性好的TiN膜层。特别是在塑料制品上低温(≤80℃)沉积出质量优良的陶瓷硬质TiN、TiCN薄膜。
     
      技术特色
     
      ▼ 沉积温度低(≤80℃),工件不变形;
     
      ▼ 计算机自动控制,工艺重复性好;
     
      ▼ 镀层品种丰富:Ag, Ti, Al等金属,TiN, TiCN, ZrN等陶瓷和类金刚石DLC薄膜;
     
      ▼ 基材限制少:塑料、橡胶、各种金属如锌、铝合金、钢、钛)均可镀膜等。
     
      镀层性能指标 Properties of films
     
      ▼ 膜层硬度高,大于Hv 1300; high hardness, >Hv 1300;
     
      ▼ 膜层厚度:0.1-1.0μm;Thickness of films about 0.1-1.0μm;
     
      ▼ 膜层颜色:以色板为准。Colors of films: up to color sample.
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